Samsung грозит судебное разбирательство в связи с технологией FinFET

Корейский институт передовых технологий (KAIST) обвиняет Samsung в незаконном использовании защищённых технологий при производстве микрочипов.

Samsung

Речь идёт о методике FinFET, которая предусматривает использование транзисторов с передовой 3D-структурой. По заявлениям


стороны обвинения, эта технология изначально была разработана специалистами KAIST в партнёрстве с профессором Ли Чен-Хо (Lee Jong-ho) из Сеульского университета.

Утверждается, что впоследствии компания Samsung пригласила господина Чен-Хо для проведения презентации на тему FinFET. Это якобы позволило инженерам южнокорейского гиганта в сжатые сроки и при меньших затратах внедрить названную методику на своих предприятиях.

Samsung

В KAIST заявляют, что Samsung использует защищённую технологию без разрешения и выплаты отчислений. На этом основании истцы намерены требовать от ответчиков выплаты компенсации.

Более того, под удар попала компания Global Foundries, использующая технологию на условиях лицензионного соглашения с Samsung. Разбирательство также грозит Qualcomm, которая пользуется услугами и Samsung, и Global Foundries. Наконец, говорится о возможности подачи иска против TSMC. 

Источник:

http://www.3dnews.ru/943664/?feed

Следующие новости:

Microsoft и Facebook проложат по дну океана суперкабель: 6600 км и 160 Тбайт/с
Профессиональный монитор Dell UP3017 обладает разрешением 2560 × 1600 точек
Плата GIGABYTE GA-H110M-DS2V поддерживает DDR4
Полезные мелочи из Японии: USB-АЦП и конвертер Mini PCIe ‒ M.2
Google перебрасывает десятки инженеров Nest для работы над умным домом
Камера Alcatel 360 — простейший способ съёмки сферических панорам
Amazon, Facebook, Google, IBM и Microsoft объединили усилия по разработке ИИ
Представлена новая серия интегральных СЖО be quiet!
Фото дня: дисплей смартфона Sharp Corner R имеет закруглённые углы